ASML出（chū）貨（huò）新光刻機NXT2000i：用於7nm/5nm DUV工藝

據外媒（méi）報道，光刻機霸（bà）主（zhǔ）ASML（阿斯麥（mài））已經開始出貨新品Twinscan NXT:2000i DUV（NXT:2000i雙工（gōng）件台深紫外光刻（kè）機），可用於7nm和5nm節點。

NXT:2000i將（jiāng）是NXE:3400B EUV光（guāng）刻機的有（yǒu）效補充（chōng），畢（bì）竟台積（jī）電/GF的第（dì）一（yī）代7nm都是（shì）基於DUV工（gōng）藝。

同時，NXT:2000i也（yě）成為了ASML旗下套（tào）刻精度（overlay）最高的（de）產品，達到了（le）和3400B一樣的（de）1.9nm（5nm要（yào）求至（zhì）少2.4nm，7nm要求至（zhì）少3.5nm）。

ASML將於本季度末開始量（liàng）產Twinscan NXT:2000i，價格未披（pī）露。目（mù）前（qián），NXE:3400B EUV光刻（kè）機（jī）的報價（jià）是（shì）1.2億（yì）美元一台，傳統的ArF沉浸式光（guāng）刻機（14nm節點）報價是7200萬美元之間（jiān）， NXT:2000i肯定是在這兩者之間了。

ASML出貨新光刻機NXT2000i：用於7nm/5nm DUV工藝

最（zuì）後（hòu）簡單（dān）介紹下ASML公司，其脫胎於（yú）荷（hé）蘭飛利浦的光刻研發小組，2017年（nián）全（quán）球光刻機市場占比7成，是絕對的一（yī）哥，後（hòu）麵跟著的（de）是佳能、尼（ní）康和（hé）上海（hǎi）微電子（zǐ）。

集成電路在製（zhì）作過程中經曆材料製（zhì）備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜（zá）、機（jī）械研磨（mó）等多個工序，其中以光刻工（gōng）序（xù）最為關鍵（jiàn），它是整個集成（chéng）電路產業製造工（gōng）藝先進程度的重要指標（biāo），即在（zài）芯（xīn）片製（zhì）造過程（chéng）中（zhōng）的掩（yǎn）膜（mó）圖（tú）形到矽（guī）襯底圖形之間的（de）轉移。（上（shàng）刻出晶體（tǐ）管器件的結構和晶體（tǐ）管之間的連接通路（lù）。）
ASML出貨新光（guāng）刻機NXT2000i：用（yòng）於7nm/5nm DUV工（gōng）藝（yì）

圖為NXE:3300 EUV光（guāng）刻機